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Aktuelle Kontaktadresse
| Land | China, VR |
|---|---|
| Ort | Shanghai |
| Universität/Institution | Fudan University |
| Institut/Abteilung | Department of Microelectronics |
Profil
| Fachgebiet | Elektronische Halbleiter, Bauelemente und Schaltungen, Integrierte Systeme, Sensorik, Theoretische Elektrotechnik |
|---|---|
| Keywords | integrated circuit processing and technology, nano-device, atomic layer deposition, Copper metallization, Interconnection, Low Dielectric Constant Materials |